ACM Research 

ACM Research, Inc., bersama dengan anak perusahaannya, mengembangkan, memproduksi, dan menjual peralatan pembersihan basah wafer tunggal untuk meningkatkan proses manufaktur dan hasil untuk chip terintegrasi di seluruh dunia. Ini menawarkan teknologi pergeseran fase bergantian ruang untuk permukaan wafer datar dan berpola, yang menggunakan fase bergantian dari gelombang megasonik untuk memberikan energi megasonik secara merata pada tingkat mikroskopis; teknologi osilasi gelembung yang diaktifkan tepat waktu untuk permukaan wafer berpola pada node proses lanjutan, yang menyediakan pembersihan untuk wafer berpola 2D dan 3D; teknologi Tahoe untuk memberikan kinerja pembersihan dengan menggunakan lebih sedikit asam sulfat dan hidrogen peroksida; dan teknologi pelapisan elektro-kimia untuk pelapisan logam yang canggih. Perusahaan memasarkan dan menjual produknya di bawah nama merek Ultra C melalui tenaga penjualan langsung dan perwakilan pihak ketiga. ACM Research, Inc. didirikan pada tahun 1998 dan berkantor pusat di Fremont, California.