CVD Equipment 

CVD Equipment Corporation, bersama dengan anak perusahaannya, merancang, mengembangkan, memproduksi, dan menjual peralatan dan solusi proses yang digunakan untuk mengembangkan dan memproduksi material dan pelapis untuk aplikasi penelitian dan industri di Amerika Serikat. Perusahaan ini beroperasi melalui tiga segmen: CVD, SDC, dan CVD Materials. Perusahaan menawarkan sistem deposisi uap kimia untuk digunakan dalam penelitian, pengembangan, dan pembuatan komponen aerospace, medis, semikonduktor, LED, nanotube karbon, nanowire, sel surya, dan aplikasi industri lainnya; serta sistem pemrosesan termal cepat untuk digunakan dalam aktivasi implan, oksidasi, pembentukan silisida, dan proses lainnya. Perusahaan juga menyediakan tungku annealing, difusi, dan deposisi uap kimia tekanan rendah untuk digunakan dalam difusi, oksidasi, anneal implan, reflow solder, pembuatan sel surya, dan proses lainnya; serta sistem kontrol gas dan cairan, seperti lemari penyimpanan silinder gas, sistem pengiriman gas dan bahan kimia kustom, kotak manifold katup gas dan cairan, dan kotak isolasi gas untuk proses fabrikasi semikonduktor, sel surya, LED, nanotube karbon, nanowire, dan aplikasi industri. Selain itu, perusahaan menawarkan peralatan kuarsa standar dan kustom yang digunakan dalam peralatannya dan alat pelanggan lainnya, serta layanan perbaikan dan penggantian untuk peralatan kuarsa yang ada. Selanjutnya, perusahaan menyediakan pencetakan MesoPlasma direct write, proses deposisi material yang menyediakan instrumen, pola fitur halus, dan pelapis pada komponen konformal; dan pelapis tahan korosi Tantaline untuk katup, fitting, pengikat, wadah, bellows, dan item yang dirancang khusus, serta menawarkan komposit karbon dan material elektronik. Perusahaan menjual produknya terutama kepada produsen komponen aerospace/pertahanan, medis, elektronik, universitas, serta laboratorium pemerintah dan industri. Perusahaan ini didirikan pada tahun 1982 dan berkantor pusat di Central Islip, New York.