ACM Research 

ACM Research, Inc., bersama dengan anak syarikatnya, membangunkan, mengeluarkan, dan menjual peralatan pembersihan basah wafer tunggal untuk meningkatkan proses pembuatan dan hasil untuk cip terintegrasi di seluruh dunia. Ia menawarkan teknologi peralihan fasa alternatif ruang untuk permukaan wafer rata dan berpola, yang menggunakan fasa bergantian gelombang megasonik untuk menyampaikan tenaga megasonik secara seragam pada tahap mikroskopik; teknologi osilasi gelembung yang diaktifkan tepat pada masanya untuk permukaan wafer berpola pada nod proses maju, yang menyediakan pembersihan untuk wafer berpola 2D dan 3D; teknologi Tahoe untuk memberikan prestasi pembersihan dengan menggunakan kurang asid sulfurik dan hidrogen peroksida; dan teknologi pelapisan elektro-kimia untuk pelapisan logam yang canggih. Syarikat ini memasarkan dan menjual produknya di bawah nama jenama Ultra C melalui tenaga jualan langsung dan wakil pihak ketiga. ACM Research, Inc. ditubuhkan pada tahun 1998 dan beribu pejabat di Fremont, California.