ACM Research 

ACM Research, Inc. ร่วมกับบริษัทในเครือพัฒนา ผลิต และจำหน่ายอุปกรณ์ทำความสะอาดแบบเปียกสำหรับชิ้นงานเดี่ยวเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพกระบวนการผลิตและผลผลิตสำหรับชิปที่รวมกันทั่วโลก บริษัทเสนอเทคโนโลยีการเปลี่ยนเฟสแบบสลับพื้นที่สำหรับพื้นผิวเวเฟอร์เรียบและมีลวดลาย ซึ่งใช้เฟสที่สลับกันของคลื่นเมกะโซนิกเพื่อส่งพลังงานเมกะโซนิกในลักษณะที่สม่ำเสมอในระดับจุลภาค; เทคโนโลยีการสั่นของฟองอากาศที่มีการกระตุ้นทันเวลา สำหรับพื้นผิวเวเฟอร์ที่มีลวดลายที่โหนดกระบวนการขั้นสูง ซึ่งให้การทำความสะอาดสำหรับเวเฟอร์ที่มีลวดลาย 2D และ 3D; เทคโนโลยี Tahoe สำหรับการให้ประสิทธิภาพการทำความสะอาดโดยใช้กรดซัลฟูริกและไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์น้อยลง; และเทคโนโลยีการชุบเคมีไฟฟ้าสำหรับการชุบโลหะขั้นสูง บริษัททำการตลาดและจำหน่ายผลิตภัณฑ์ภายใต้ชื่อแบรนด์ Ultra C ผ่านทีมขายโดยตรงและตัวแทนของบุคคลที่สาม ACM Research, Inc. ก่อตั้งขึ้นในปี 1998 และมีสำนักงานใหญ่ตั้งอยู่ที่ Fremont, California.