ACM Research 

ACM Research, Inc., cùng với các công ty con của mình, phát triển, sản xuất và bán thiết bị làm sạch ướt wafer đơn để nâng cao quy trình sản xuất và năng suất cho các chip tích hợp trên toàn thế giới. Công ty cung cấp công nghệ dịch chuyển pha thay đổi không gian cho bề mặt wafer phẳng và có họa tiết, sử dụng các pha thay đổi của sóng megasonic để cung cấp năng lượng megasonic một cách đồng đều ở cấp độ vi mô; công nghệ dao động bọt khí được kích hoạt kịp thời cho bề mặt wafer có họa tiết tại các nút quy trình tiên tiến, cung cấp khả năng làm sạch cho wafer có họa tiết 2D và 3D; công nghệ Tahoe để cung cấp hiệu suất làm sạch bằng cách sử dụng ít axit sulfuric và hydro peroxide hơn; và công nghệ mạ điện hóa học cho mạ kim loại tiên tiến. Công ty tiếp thị và bán sản phẩm của mình dưới tên thương hiệu Ultra C thông qua lực lượng bán hàng trực tiếp và đại diện bên thứ ba. ACM Research, Inc. được thành lập vào năm 1998 và có trụ sở tại Fremont, California.