CVD Equipment 

CVD Equipment Corporation, cùng với các công ty con của mình, thiết kế, phát triển, sản xuất và bán thiết bị và giải pháp quy trình được sử dụng để phát triển và sản xuất vật liệu và lớp phủ cho các ứng dụng nghiên cứu và công nghiệp tại Hoa Kỳ. Công ty hoạt động thông qua ba phân khúc: CVD, SDC và Vật liệu CVD. Công ty cung cấp hệ thống lắng đọng hơi hóa học để sử dụng trong nghiên cứu, phát triển và sản xuất các thành phần hàng không vũ trụ, y tế, linh kiện bán dẫn, LED, ống nano carbon, dây nano, tế bào mặt trời và các ứng dụng công nghiệp khác; và hệ thống xử lý nhiệt nhanh để sử dụng trong kích hoạt cấy ghép, oxy hóa, hình thành silicide và các quy trình khác. Nó cũng cung cấp lò ủ, khuếch tán và lắng đọng hơi hóa học áp suất thấp để sử dụng trong khuếch tán, oxy hóa, ủ cấy ghép, làm nóng lại hàn, sản xuất tế bào mặt trời và các quy trình khác; và hệ thống kiểm soát khí và lỏng, chẳng hạn như tủ lưu trữ bình khí, hệ thống cung cấp khí và hóa chất tùy chỉnh, hộp manifold van khí và lỏng, và hộp cách ly khí cho các quy trình chế tạo bán dẫn, tế bào mặt trời, LED, ống nano carbon, dây nano và các ứng dụng công nghiệp. Ngoài ra, công ty cung cấp các thiết bị quartz tiêu chuẩn và tùy chỉnh được sử dụng trong thiết bị của mình và các công cụ của khách hàng khác, cũng như dịch vụ sửa chữa và thay thế cho các thiết bị quartz hiện có. Hơn nữa, công ty cung cấp in 3D MesoPlasma, một quy trình lắng đọng vật liệu cung cấp thiết bị, mẫu hình chi tiết và lớp phủ lên các thành phần phù hợp; và lớp phủ chống ăn mòn Tantaline cho van, phụ kiện, bu lông, bình chứa, bellows và các mặt hàng thiết kế tùy chỉnh, cũng như cung cấp các vật liệu composite carbon và vật liệu điện tử. Công ty chủ yếu bán sản phẩm của mình cho các nhà sản xuất hàng không/vũ trụ, y tế, linh kiện điện tử, các trường đại học và các phòng thí nghiệm chính phủ và công nghiệp. Công ty được thành lập vào năm 1982 và có trụ sở tại Central Islip, New York.