CVD Equipment Corporation, bersama entiti bersekutu, pakar dalam kejuruteraan, pembuatan, dan pengedaran peralatan proses canggih serta penyelesaian komprehensif. Tawaran ini adalah instrumen penting dalam penciptaan dan fabrikasi bahan maju serta salutan khusus, memenuhi keperluan institusi penyelidikan dan sektor industri, terutamanya di Amerika Syarikat. Syarikat beroperasi melalui tiga bahagian berbeza: CVD, SDC, dan CVD Materials. Portfolio produknya yang luas merangkumi: Sistem Chemical Vapor Deposition (CVD): Penting untuk penyelidikan, pembangunan, dan pengeluaran dalam pelbagai bidang seperti aeroangkasa, komponen perubatan, semikonduktor, teknologi LED, nanotube karbon, nanowire, sel solar, dan pelbagai aplikasi industri lain. Sistem Rapid Thermal Processing: Digunakan untuk proses kritikal termasuk pengaktifan implan, pengoksidaan, dan pembentukan silisida. Relau (Furnaces): Merangkumi model annealing, resapan, dan low-pressure chemical vapor deposition, yang digunakan dalam resapan, pengoksidaan, implant annealing, solder reflow, dan pembuatan sel solar. Sistem Kawalan Gas dan Cecair: Kategori ini termasuk kabinet penyimpanan silinder gas, persediaan penghantaran gas dan kimia tersuai, kotak manifold injap untuk gas dan cecair, serta kotak pengasingan gas, yang kesemuanya penting untuk fabrikasi semikonduktor, pengeluaran sel solar, LED, nanotube karbon, nanowire, dan kegunaan industri am. Quartz-ware: Item standard dan fabrikasi tersuai, sering disepadukan ke dalam peralatan syarikat sendiri atau dibekalkan untuk peralatan pelanggan lain, dilengkapi dengan perkhidmatan pembaikan dan penggantian. MesoPlasma Direct Write Printing: Teknik pemendapan bahan inovatif yang membolehkan penciptaan instrumentasi, corak rumit, dan salutan pada permukaan konformal yang kompleks. Salutan Tahan Kakisan Tantaline: Digunakan untuk meningkatkan ketahanan komponen seperti injap, penyambung, pengikat, bekas, bellows, dan item reka bentuk tersuai lain. Bahan Tambahan: Syarikat juga menyediakan komposit karbon dan pelbagai bahan elektronik. Pelanggan CVD Equipment Corporation terdiri terutamanya daripada organisasi dalam sektor aeroangkasa dan pertahanan, industri perubatan, pengilang komponen elektronik, institusi akademik, serta makmal industri kerajaan dan swasta. Ditubuhkan pada tahun 1982, syarikat ini berpangkalan di Central Islip, New York.
Harga semasa CVV ialah $6.81 USD — telah menurun sebanyak -0.15% dalam 24 jam yang lalu. Pantau prestasi harga saham CVD Equipment dengan lebih dekat pada carta.
Apakah simbol saham CVD Equipment?▼
Bergantung pada bursa, simbol saham mungkin berbeza. Sebagai contoh, di bursa , saham CVD Equipment didagangkan di bawah simbol CVV.
Adakah harga saham CVD Equipment sedang meningkat?▼
Saham CVV meningkat sebanyak +10.19% berbanding minggu sebelumnya, perubahan bulanan ialah kenaikan +30.96%, dan sepanjang tahun lalu CVD Equipment menunjukkan peningkatan +124.51%.
Apakah modal pasaran CVD Equipment?▼
Hari ini CVD Equipment mempunyai modal pasaran sebanyak 47.24M
Bagaimanakah keputusan kewangan CVD Equipment pada suku lepas?▼
Keputusan kewangan CVV bagi suku terakhir ialah -0.15 USD sesaham, manakala anggaran ialah Tiada USD, menghasilkan kejutan sebanyak Tiada. Anggaran keputusan bagi suku berikutnya ialah Tiada USD sesaham.
Berapakah hasil CVD Equipment untuk tahun lepas?▼
Hasil CVD Equipment untuk tahun lalu berjumlah 53.75M USD.
Berapakah pendapatan bersih CVD Equipment untuk tahun lepas?▼
Pendapatan bersih CVV untuk tahun lepas ialah -3.8M USD.
Berapa ramai pekerja yang dimiliki oleh CVD Equipment?▼
Sehingga Jun 15, 2026, syarikat mempunyai 118 pekerja.
CVD Equipment terletak dalam sektor apa?▼
CVD Equipment beroperasi dalam sektor Teknologi.
Bilakah CVD Equipment menyiapkan split saham?▼
CVD Equipment tidak mempunyai sebarang split baru-baru ini.
Di manakah ibu pejabat CVD Equipment?▼
Ibu pejabat CVD Equipment terletak di Central Islip, Amerika Syarikat.