CVD Equipment 

CVD Equipment Corporation, bersama dengan anak syarikatnya, merancang, membangun, mengeluarkan, dan menjual peralatan dan penyelesaian proses yang digunakan untuk membangunkan dan mengeluarkan bahan dan salutan untuk aplikasi penyelidikan dan industri di Amerika Syarikat. Ia beroperasi melalui tiga segmen: CVD, SDC, dan CVD Materials. Syarikat ini menawarkan sistem deposisi wap kimia untuk digunakan dalam penyelidikan, pembangunan, dan pembuatan komponen aeroangkasa, perubatan, semikonduktor, LED, nanotube karbon, nanowire, sel solar, dan aplikasi industri lain; dan sistem pemprosesan termal cepat untuk digunakan dalam pengaktifan implan, pengoksidaan, pembentukan silisida, dan proses lain. Ia juga menyediakan ketuhar annealing, difusi, dan deposisi wap kimia tekanan rendah untuk digunakan dalam difusi, pengoksidaan, anneal implan, reflow solder, pembuatan sel solar, dan proses lain; serta sistem kawalan gas dan cecair, seperti kabinet penyimpanan silinder gas, sistem penghantaran gas dan bahan kimia khusus, kotak manifold injap gas dan cecair, dan kotak pengasingan gas untuk proses fabrikasi semikonduktor, sel solar, LED, nanotube karbon, nanowire, dan aplikasi industri. Selain itu, syarikat ini menawarkan peralatan kuarza standard dan kustom yang digunakan dalam peralatannya dan alat pelanggan lain, serta perkhidmatan pembaikan dan penggantian untuk peralatan kuarza yang sedia ada. Selanjutnya, ia menyediakan pencetakan MesoPlasma direct write, satu proses deposisi bahan yang menyediakan instrumen, corak ciri halus, dan salutan pada komponen konformal; dan salutan tahan kakisan Tantaline untuk injap, fitting, pengikat, bekas, bellows, dan item yang direka khas, serta menawarkan komposit karbon dan bahan elektronik. Syarikat ini menjual produknya terutamanya kepada pengeluar komponen aeroangkasa/pertahanan, perubatan, elektronik, universiti, dan makmal kerajaan serta industri. Syarikat ini ditubuhkan pada tahun 1982 dan beribu pejabat di Central Islip, New York.