CVD Equipment 

CVD Equipment 及其子公司设计、开发、制造并销售工艺设备与解决方案，用于在美国的研究及工业应用中开发和制造材料及涂层。公司通过三个业务部门运营：CVD、SDC 和 CVD Materials。公司提供化学气相沉积（CVD）系统，用于航空航天、医疗组件、半导体、LED、碳纳米管、纳米线、太阳能电池及其他工业应用的研发与制造；并提供快速热处理系统，用于注入激活、氧化、硅化物形成及其他工艺。此外，公司还提供退火、扩散和低压化学气相沉积炉，用于扩散、氧化、注入退火、焊料回流、太阳能电池制造及其他工艺；并提供气体和液体控制系统，例如用于半导体制造工艺、太阳能电池、LED、碳纳米管、纳米线及工业应用的钢瓶存储柜、定制气体和化学品输送系统、气液阀门歧管箱以及气体隔离箱。此外，公司还提供用于其设备和其他客户工具的标准及定制石英制品，以及现有石英制品的维修和更换服务。公司还提供 MesoPlasma 直接书写打印技术（一种可向共形组件提供仪器、精细特征图案和涂层的材料沉积工艺），以及用于阀门、接头、紧固件、容器、波纹管和定制设计物品的 Tantaline 耐腐蚀涂层，并提供碳复合材料和电子材料。公司的产品主要销往航空航天/国防、医疗、电子元件制造商、大学以及政府和工业实验室。公司成立于 1982 年，总部位于纽约州中央伊斯利普。